Nanoelektronik als künftige Schlüsseltechnologie der Informations- und Kommunikationstechnik in Deutschland
Hintergrund und Ziele
Die Nanoelektronik ist als Fortsetzung der Mikroelektronik einerseits durch die Entwicklung der elektronischen Bauelemente auf Basis der vorherrschenden Siliziumtechnologie in Richtung auf kleinere Strukturgrößen, höhere Integrationsdichten und erweiterte Funktionalitäten gekennzeichnet, andererseits durch die Entwicklung neuer Materialien, Bauelemente und Systemarchitekturen gekennzeichnet. Sie ist als Basis- und Schlüsseltechnologie für große Bereiche der Industrieproduktion und Wertschöpfung von fundamentaler Bedeutung und insbesondere auch eine Zukunfts- und Schrittmachertechnologie mit umfassender Bedeutung für die Technologieentwicklung in weiten Bereichen der industriellen Entwicklung und Produktion. Ausgehend von einer großen Tradition und starken Stellung Deutschlands auf dem Feld der Halbleitertechnologie sowie der starken Stellung Deutschlands im Bereich der Nanotechnologie- und Nanoelektronik-Forschung wird die zunehmende Verlagerung von Produktionsstandorten in die Nähe zukünftiger Zielmärkte in Asien mit Sorge betrachtet.
Welche Chancen ergeben sich aus der Nanoelektronik hinsichtlich der Effizienzsteigerung und Entwicklung neuer Technologien? Was ist der aktuelle Forschungsstand und der Forschungsbedarf in Wissenschaft und Wirtschaft? Welche Handlungsimplikationen und Empfehlungen ergeben sich für Politik, Wirtschaft und Wissenschaft? Solche Fragen werden im Rahmen einer Literaturrecherche, Experteninterviews und durch die Entwicklung von Szenarien diskutiert.
Mitglieder der Projektgruppe
- Dr. Ralf Anselmann
Evonik Degussa GmbH - Dr. Wolfgang Arden
Infineon Technologies AG - Prof. Dr.-Ing. Christian Boit
Technische Universität Berlin - Prof. Patrick Dewilde
Technische Universität München - Prof. Dr. Harald Fuchs
Westfälische Wilhelms-Universität - Prof. Dr.-Ing. Heinz Gerhäuser
Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg - Prof. Dr. rer. nat. Ernst Otto Göbel
- Dr. Karl-Heinrich Hahn
BASF SE - Prof. Dr. Josef Hausner
Intel Deutschland GmbH - Prof. Dr. rer. nat. Wolfgang M. Heckl
Deutsches Museum / TU München - Prof. Dr.-Ing. Dr.-Ing. e. h. Joachim Heinzl
Technische Universität München - Prof. Dr. Dr. h. c. Karl Hess
University of Illinois - Prof. em. Dr. Wolfgang J. R. Hoefer
A*Star - Prof. Dr. Erich Kasper
Universität Stuttgart - Dr. Michael Lentze
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Univ.-Prof. Dr. Paolo Lugli
Technische Universität München - Prof. Dr.-Ing. Wolfgang Mathis
Leibniz Universität Hannover - Prof. Dr. rer. nat. habil. Reinhard Neumann
- Prof. Dr. techn. Josef A. Nossek
Technische Universität München - Prof. Dr. Wolfgang Porod
University of Notre Dame - Prof. Dr. techn. Dr. h. c. Peter Russer
Technische Universität München - Prof. Dr. rer. nat. Doris Schmitt-Landsiedel
Technische Universität München - Prof. Dr. Martin Stutzmann
Technische Universität München - Prof. Dr.-Ing. Roland Thewes
Technische Universität Berlin - Prof. Dr. Frank Träger
- Prof. Dr. Günter von Kiedrowski
Ruhr-Universität Bochum - Prof. Dr.-Ing. Dr.-Ing. habil. Robert Weigel
Universität Erlangen-Nürnberg - Prof. Dr. Roland Wiesendanger
Universität Hamburg